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Offers “CEA”

Expires soon CEA

Alternance:Optimisation de procédés de lithographie par immersion H/F

  • Stage
  • Grenoble ( Isère )
  • Studies / Statistics / Data

Job description

Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.

Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).

Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.

Référence

2020-12911

Description de l'unité

Le CEA-LETI est engagé dans le développement et l'intégration des nouvelles technologies pour l'industrie du semi-conducteur. A ce titre, il travaille sur le développement de différentes techniques de lithographie permettant de dessiner les puces de demain. Suite à l'investissement récent d'un scanner de lithographie par immersion le LETI peut supporter ses filières prioritaires grâce à sa ligne pilote de production 300mm ainsi que ses partenaires industriels dans le cadre des développements des technologies dites « dérivatives » tout en offrant un environnement de recherche innovant. La lithographie par immersion permet en effet de dessiner des dispositifs plus petits et plus performants avec un volume de production élevé et reste la référence industrielle.

Description du poste

Domaine

Technologies micro et nano

Contrat

Alternance

Intitulé de l'offre

Alternance:Optimisation de procédés de lithographie par immersion H/F

Sujet de stage

Optimisation de procédés de lithographie par immersion

Durée du contrat (en mois)

36 mois

Description de l'offre

L'alternance sera réalisée en grande partie dans la salle blanche du CEA-LETI en travaillant sur des substrats de silicium de 300mm. Au quotidien de nombreux équipements de lithographie et de métrologie de dernière génération seront utilisés.

Le but de l'alternance sera de travailler avec l'équipe d'ingénieurs chercheurs sur l'optimisation de procédés de lithographie par immersion, parfois en lien avec les équipementiers.

Merci d'envoyer vos CV et LM à : karine.jullian@cea.fr

Ideal candidate profile

Profil du candidat

Ecole ingénieur