Alternance:Optimisation de procédés de lithographie par immersion H/F
Stage Grenoble (Isère) Études / Statistiques / Data
Description de l'offre
Détail de l'offre
Informations générales
Entité de rattachement
Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).
Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.
Référence
2020-12911Description de l'unité
Le CEA-LETI est engagé dans le développement et l'intégration des nouvelles technologies pour l'industrie du semi-conducteur. A ce titre, il travaille sur le développement de différentes techniques de lithographie permettant de dessiner les puces de demain. Suite à l'investissement récent d'un scanner de lithographie par immersion le LETI peut supporter ses filières prioritaires grâce à sa ligne pilote de production 300mm ainsi que ses partenaires industriels dans le cadre des développements des technologies dites « dérivatives » tout en offrant un environnement de recherche innovant. La lithographie par immersion permet en effet de dessiner des dispositifs plus petits et plus performants avec un volume de production élevé et reste la référence industrielle.
Description du poste
Domaine
Technologies micro et nano
Contrat
Alternance
Intitulé de l'offre
Alternance:Optimisation de procédés de lithographie par immersion H/F
Sujet de stage
Optimisation de procédés de lithographie par immersion
Durée du contrat (en mois)
36 mois
Description de l'offre
L'alternance sera réalisée en grande partie dans la salle blanche du CEA-LETI en travaillant sur des substrats de silicium de 300mm. Au quotidien de nombreux équipements de lithographie et de métrologie de dernière génération seront utilisés.
Le but de l'alternance sera de travailler avec l'équipe d'ingénieurs chercheurs sur l'optimisation de procédés de lithographie par immersion, parfois en lien avec les équipementiers.
Merci d'envoyer vos CV et LM à : karine.jullian@cea.fr
Profil recherché
Profil du candidat
Ecole ingénieur