Alternance:Des surfaces aplanies à l'échelle atomique H/F
Stage Grenoble (Isère) Conception / Génie civil / Génie industriel
Description de l'offre
Détail de l'offre
Informations générales
Entité de rattachement
Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).
Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.
Référence
2020-12918Description de l'unité
Si les puces électroniques se retrouvent aujourd'hui dans de très nombreux objets de la vie quotidienne, c'est qu'elles sont fabriquées en série et contiennent des milliards de composants. Cette production fait appel à des technologies d'une extrême complexité et nécessite d'avoir des procédés de fabrication stables et répétables afin de toujours atteindre les mêmes performances.
La CMP - polissage mécano-chimique - est la seule étape technologique aujourd'hui largement utilisée dans toute l'industrie de la microélectronique (processeurs, imageurs, mémoires, capteurs, …) pour obtenir des surfaces aplanies à l'échelle atomique. La stabilité de ce procédé est dépendante de l'évolution de la micro-texture du tissu de polissage au cours de sa durée de vie. L'amélioration des performances et des coûts des procédés CMP nécessite de maitriser cette texturation à l'aide de disques diamantés et de recettes appropriées.
Description du poste
Domaine
Technologies micro et nano
Contrat
Alternance
Intitulé de l'offre
Alternance:Des surfaces aplanies à l'échelle atomique H/F
Sujet de stage
Des surfaces aplanies à l'échelle atomique à l'aide de procédés de texturation stables.
Durée du contrat (en mois)
36 mois
Description de l'offre
Le premier objectif de l'alternance consistera à mener des tests pour atteindre un bon état de surface du tissu de polissage, le plus rapidement et le plus longtemps possible. Le choix des consommables et des paramètres de la recette équipement seront les principaux leviers à investiguer.
Le second objectif sera d'étudier le lien entre les paramètres de texturation du tissu et le taux de défaut mesuré sur les surfaces aplanies afin de minimiser leur impact sur les dispositifs finaux.
Travail demandé:
- Caractérisation des surfaces des tissus et des disques par microscopie confocale
- Caractérisation des performances CMP obtenues sur plaques polies (taux d'enlèvement, rugosité, état de surface…)
- Optimisation de conditionnement des tissus dans le but d'être stable le plus rapidement et le plus longtemps possible.
Cette alternance est proposée pour 3 ans, école ingénieur.
Merci d'envoyer vos CV et LM à : cedric.perrot@cea.fr
Profil recherché
Profil du candidat
Ecole ingénieur