Nouvelles méthodologies pour la mesure du focus et de l'overlay de la litho. H/F
Stage Grenoble (Isère) Conception / Génie civil / Génie industriel
Description de l'offre
Détail de l'offre
Informations générales
Entité de rattachement
Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).
Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.
Référence
2020-12873Description de l'unité
Le focus et l'overlay des étapes de photolithographie sont les principaux paramètres à suivre pendant le processus de fabrication de composants électronique. Actuellement ces paramètres sont suivis par scatterométrie « résolue en angle» et par la microscopie optique. D'autres techniques peuvent être utilisées, comme le CD-SEM à faisceaux inclinés ou encore la scattérométrie « réflective ». Ces techniques de métrologie doivent être testées pour étudier le gain en précision et justesse de mesure.
Description du poste
Domaine
Instrumentation, métrologie et contrôle
Contrat
Alternance
Intitulé de l'offre
Nouvelles méthodologies pour la mesure du focus et de l'overlay de la litho. H/F
Sujet de stage
Alternance:Nouvelles méthodologies pour la mesure du focus et de l'overlay de la lithographie.
Durée du contrat (en mois)
10 à 12 mois
Description de l'offre
But:
Evaluer le CD-SEM à faisceaux inclinés et la scatterométrie réflective pour la mesure du focus et de l'overlay des étapes de photolithographie
Comparer les techniques de métrologie pour améliorer la précision de mesure.
Etablir des références de travail pour gagner en justesse de mesure.
Aspect novateur:
Benchmark / corrélation de techniques de métrologie pour les mesures de focus et d'overlay (explorer éventuellement l'hybridation et l'injection de données, machine learning à envisager).
Mis en place de référence de travail pour les mesures de focus et d'overlay
Instrumentation :
CD-SEM à faisceaux inclinés, scattérometrie résolue en angle , scattérometrie réflective, microscope optique.
Merci d'envoyer vos CV et LM à : yoann.blancquaert@cea.fr