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Offers “CEA”

Expires soon CEA

Nouvelles méthodologies pour la mesure du focus et de l'overlay de la litho. H/F

  • Stage
  • Grenoble ( Isère )
  • Studies / Statistics / Data

Job description

Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.

Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).

Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.

Référence

2020-12873

Description de l'unité

Le focus et l'overlay des étapes de photolithographie sont les principaux paramètres à suivre pendant le processus de fabrication de composants électronique. Actuellement ces paramètres sont suivis par scatterométrie « résolue en angle» et par la microscopie optique. D'autres techniques peuvent être utilisées, comme le CD-SEM à faisceaux inclinés ou encore la scattérométrie « réflective ». Ces techniques de métrologie doivent être testées pour étudier le gain en précision et justesse de mesure.

Description du poste

Domaine

Instrumentation, métrologie et contrôle

Contrat

Alternance

Intitulé de l'offre

Nouvelles méthodologies pour la mesure du focus et de l'overlay de la litho. H/F

Sujet de stage

Alternance:Nouvelles méthodologies pour la mesure du focus et de l'overlay de la lithographie.

Durée du contrat (en mois)

10 à 12 mois

Description de l'offre

But:
Evaluer le CD-SEM à faisceaux inclinés et la scatterométrie réflective pour la mesure du focus et de l'overlay des étapes de photolithographie

Comparer les techniques de métrologie pour améliorer la précision de mesure.

Etablir des références de travail pour gagner en justesse de mesure.

Aspect novateur:
Benchmark / corrélation de techniques de métrologie pour les mesures de focus et d'overlay (explorer éventuellement l'hybridation et l'injection de données, machine learning à envisager).

Mis en place de référence de travail pour les mesures de focus et d'overlay

Instrumentation :
CD-SEM à faisceaux inclinés, scattérometrie résolue en angle , scattérometrie réflective, microscope optique.

Merci d'envoyer vos CV et LM à : yoann.blancquaert@cea.fr