Ingénieur en lithographie computationnelle OPC H/F
CDI Grenoble (Isère) Conception / Génie civil / Génie industriel
Description de l'offre
Détail de l'offre
Informations générales
Entité de rattachement
Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).
Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.
Référence
2018-7082Description de la Direction
Le LETI dispose d'une plate-forme Silicium qui regroupe tous les moyens opérationnels (équipements et procédés) et dont la mission est d'apporter aux clients internes et externes un service de réalisations technologiques dans le domaine des micros et nano technologies.
Description de l'unité
Au sein du département des technologies Silicium, le service Patterning a pour mission de proposer, définir et conduire, en lien avec les besoins des programmes, les actions de recherche et développements liés à la lithographie, la gravure et la métrologie ainsi qu'à leur intégration en production.
Le laboratoire de lithographie recrute un ingénieur pour effectuer de la correction optique de proximité (OPC) pour ses projets de lithographie avancée.
Description du poste
Domaine
Composants et équipements électroniques
Contrat
CDI
Intitulé de l'offre
Ingénieur en lithographie computationnelle OPC H/F
Statut du poste
Cadre
Description de l'offre
La mise en œuvre d’un équipement de lithographie par immersion pour les technologies les plus avancées, nécessitent dans le même temps de développer des outils pour effectuer de la correction optique de proximité (ou OPC).
Les principales missions seront :
- programmer en vue de corriger les motifs sur les masques de lithographie, de manière à compenser les effets de diffraction optique et augmenter la fenêtre de procédés lithographique
- programmer pour vérifier la justesse de la correction et la faisabilité du masque
calibrer des modèles optiques et de résine
- interagir avec les clients (filières) en vue de définir les bons paramètres d’optimisation
- interagir avec les équipes de procédés de lithographie et le responsable des masques, pour garantir la faisabilité
- mesurer sur des équipements en salle blanche la bonne réalisation des modèles de correction une fois les masques réceptionnés
- optimiser les modèles de source de l’équipement de lithographie
- Documenter les considérations techniques utilisées dans les simulations et modèles
Profil recherché
Profil du candidat
Vous devrez être à minima titulaire d'un diplôme de niveau Bac + 5 (Master, ingénieur) en physique, microélectronique ou optique.
Vous avez une expérience en simulation / modélisation optique. Vous maitrisez des langages de programmation (TCL, SVRF, Python…) et de l'environnement Unix
Rigoureux et autonome, vous êtes force de proposition pour résoudre des problèmes nécessitant un esprit d'innovation et de développement collaboratif.