Ing. en modelisation numérique appliquée à la lithographie H/F
Stage Grenoble (Isère) Chimie / Biologie / Agronomie
Description de l'offre
Détail de l'offre
Informations générales
Entité de rattachement
Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).
Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.
Référence
2020-11827Description de la Direction
Le CEA LETI (Laboratoire d'Electronique et des Technologies de l'Information) à Grenoble est un des centres de recherche technologique leaders mondiaux en matière de Nouvelles Technologies de l'Information et de la Communication (NTIC). Sa mission première est de développer des solutions innovantes dans ses différents domaines de compétences et de les transférer à l'industrie dans le cadre de partenariats industriels, afin de répondre aux besoins de marchés à forte croissance.
Description de l'unité
La lithographie 193 nm par immersion (193i) est une technologie clé du LETI permettant d'écrire des dessins de microélectronique avancée dont les tailles caractéristiques sont en dessous de la longueur d'onde (40 nm). Cette prouesse technologique est rendue possible grâce à la modélisation et à la correction des effets de proximité optique (OPC), liés aux processus de diffraction et d'interférence optique manifestes à ces échelles.
Les applications technologiques CMOS, photonique et mémoire du LETI, qui gravitent autour de la lithographie 193i, nécessitent l'impression de dessins de différents types (Manhattan, courbes) et présentent des exigences diverses sur l'empilement des matériaux à intégrer. Pour cela, des modèles de lithographie doivent être calibrées au mieux, compte tenu des spécifications de chaque projet.
L'amélioration de ces modèles et donc de la lithographie s'appuie sur la caractérisation de plus en plus précise et complète des motifs imprimés notamment à partir d'images de microscopie électronique (SEM). Les informations d'intérêt extraites des images SEM vont des simples mesures unidimensionnelles classiques (1D), de l'extraction de contour (2D) jusqu'à la reconstruction de la topographie (3D).
Description du poste
Domaine
Technologies micro et nano
Contrat
CDD
Intitulé de l'offre
Ing. en modelisation numérique appliquée à la lithographie H/F
Statut du poste
Cadre
Durée du contrat (en mois)
18 mois (renouvelables)
Description de l'offre
Le poste à pourvoir est au sein du groupe de Lithographie Computationnel (CLG) composé d'une dizaine de personnes spécialisées dans la préparation des données pour la lithographie, métrologie et softwares associés. Le groupe travaille en forte synergie avec plusieurs industriels.
Vous mènerez à bien les missions suivantes :
-Calibration de modèles de lithographie : Définir les motifs de calibration d'intérêt et les réaliser par lithographie, puis collecter les données de métrologie associées à partir de différents équipements de métrologie du LETI. Traiter ces mesures expérimentales en utilisant des algorithmes développés dans le groupe, externes, ou restant à construire.
-Utilisation et amélioration du flow de correction des effets de proximité (OPC) pour assurer les exigences de production et de qualité de la lithographie 193i au LETI. Vérification de la correction par des mesures de métrologie 2D/3D.
Ces travaux s'effectueront en lien étroit avec les équipes de lithographie et de métrologie de salle blanche, ainsi qu'avec les différents départements applicatifs du CEA-LETI.
Les savoirs faire mis en œuvre :
Technologies : Lithographie optique et électronique. Traitements d'image et du signal, Lithographie computationnelle. Microscopie électronique à balayage, à force atomique, en coupe.- Outils d'analyse : Python, Calibre, Inscale
Environnement : Pycharm, SVN, intégration continue, méthode Agile Scrumban
Profil recherché
Profil du candidat
Diplôme d'ingénieur en physique / mathématiques appliquées / informatique / traitement du signal