Alternance:Optimisation de procédés de lithographie par immersion H/F (Technologies micro et nano)

Description de l'offre

Domaine : Technologies micro et nano

Contrat : Alternance

Description du poste :

L’alternance sera réalisée en grande partie dans la salle blanche du CEA-LETI en travaillant sur des substrats de silicium de 300mm. Au quotidien de nombreux équipements de lithographie et de métrologie de dernière génération seront utilisés.
Le but de l’alternance sera de travailler avec l’équipe d’ingénieurs chercheurs sur l’optimisation de procédés de lithographie par immersion, parfois en lien avec les équipementiers.
Merci d'envoyer vos CV et LM à : karine.jullian@cea.fr


Ecole ingénieur

Ville : Grenoble