Le Département Technologie Silicium du LETI utilise pour la fabrication de ces démonstrateurs sur tranche de silicium des procédés de gravure plasma permettant de graver des structures allant jusqu'à quelques dizaines de nanomètres. Le LETI possède ainsi un équipement de gravure plasma de matériaux diélectriques largement employés dans l'industrie microélectronique et de ce fait indispensable à la réalisation de différents systèmes réalisés dans nos salles blanches (transistors de puissance, mémoires, circuits photoniques..).

Le stage consiste à faire l'état des lieux des procédés plasma utilisés dans un des équipements de la plateforme silicium LETI et à en étudier les vitesses et uniformités de gravure ainsi que les sélectivités aux sous couches. Vous devrez ainsi formé sur l'équipement en salle blanche à la gravure plasma et vous réaliserez des mesures d'épaisseurs de couches minces par éllipsométrie. Ce travail sera validé par un document de synthèse permettant de faciliter le travail et le choix des procédés par les ingénieurs et les techniciens travaillant dans la zone "gravure" de la salle blanche. Il sera également l'occasion pour vous de comprendre les mécanismes intervenant dans ce type de procédés et de découvrir les différentes étapes entrant dans la fabrication des puces électroniques.

Pour postuler à cette offre, merci de contacter Mr SOMMER à l'adresse suivante : class="Location">