Alternance:Développement et évaluation de nouvelles méthodes d'analyses de contaminants H/F (Technologies micro et nano)

Description de l'offre

Domaine : Technologies micro et nano

Contrat : Alternance

Description du poste :

 Le sujet se focalise sur le développement de méthodes d’analyse par TXRF, une technique qui permet la mesure de contaminants métalliques à la surface de plaques de silicium grâce à un faisceau de rayon X. Cette technique est déjà opérationnelle pour des demandes d’analyses routinières en mode cartographie ou localisé à l’échelle d’une tranche de silicium (de 100 à 300 mm de diamètre). Vous travaillerez sur le développement et l’optimisation :
- de la mesure en extrême bord de plaque,
- d’un mode appelé HSST pour High Surface Sensitivity Treatment permettant de diminuer les limites de détection,
- de l’analyse de surfaces hydrophiles par décomposition en phase vapeur (VPD)
- de l’analyse TXRF sur d’autres natures de matériaux comme par ex l’AsGa ou l’InP.


IUT Mesures Physiques
Licence pro

Ville : Grenoble