Alternance:Développement d'une technique de métrologie: mesure d'overlay H/F
Stage Grenoble (Isère) Gestion de projet / Produit
Description de l'offre
Détail de l'offre
Informations générales
Entité de rattachement
Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).
Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.
Référence
2020-13005Description de l'unité
La réalisation de composants microélectroniques implique la superposition de niveaux successifs. Pour le bon fonctionnement du dispositif final, la structure d'un niveau doit être bien alignée avec celle du précédent. La mesure optique, nommée overlay (OVL), permet d'obtenir les valeurs de ce désalignement. Un modèle mathématique associé à la mesure OVL permet d'apporter une correction à la lithographie suivante pour une bonne superposition des niveaux. Comme la mesure optique est réalisée sur des marques dédiées, il reste un doute sur la valeur réelle du désalignement en un point actif du composant (ex: transistor). L'objet du l'alternance est d'estimer l'écart entre la mesure de l'OVL réel qui sera mesurée par microscopie électronique à balayage avec la valeur obtenue par le modèle optique.
Description du poste
Domaine
Instrumentation, métrologie et contrôle
Contrat
Alternance
Intitulé de l'offre
Alternance:Développement d'une technique de métrologie: mesure d'overlay H/F
Sujet de stage
Développement d'une technique de métrologie: mesure d'overlay dans le champ par microscopie électronique.
Durée du contrat (en mois)
10 à 12 mois
Description de l'offre
But:
- Evaluer et développer la mesure d'overlay par CD-SEM,
- Déterminer les meilleurs paramètres de l'équipement pour obtenir une mesure fiable et robuste.
Aspect novateur:
- Mesurer l'overlay réel en un point actif d'un composant.
Instrumentation :
- CD-SEM, Mesure optique d'overlay.
Merci d'envoyer vos Cv et LM à : cyril.vannufel@cea.fr
Profil recherché
Profil du candidat
Master 2